鈣鈦礦蒸鍍?cè)O(shè)備
磁控濺射生產(chǎn)線
產(chǎn)品特點(diǎn)
技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 設(shè)備型號(hào) | ZCJ-300（600、1200） |
| 極限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分類(lèi) | 進(jìn)、出樣室（1000Pa） |
| 過(guò)渡室（0.5Pa） | |
| 緩沖室（壓力及氣氛匹配濺射室） | |
| 濺射室（0.5Pa） | |
| 濺射靶類(lèi)型 | 矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)靶 |
技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
| 常用靶材 | ITO、NiO2、Cu |
| 靶基距 | 80~120mm |
| 鍍膜節(jié)拍 | ≥60s |
| 連續(xù)運(yùn)行時(shí)間 | ≥200h |
| 片內(nèi)膜厚均勻性 | ≤±3% |
| 片間膜厚均勻性 | ≤±3% |
